產(chǎn)品中心
Product Center當前位置:首頁產(chǎn)品中心樣品前處理光化學反應儀大容量光化學反應器CH-GHX-B光解水反應裝置
品牌 | 其他品牌 | 真空度 | 0Mpa |
---|---|---|---|
價格區(qū)間 | 1-2萬 | 工作壓力 | 常壓 |
儀器材質(zhì) | 其它 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
應用領域 | 環(huán)保,食品,化工,生物產(chǎn)業(yè),制藥 | 汞燈功率調(diào)節(jié)范圍 | 0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié) |
反應暗箱數(shù)量 | 1臺 | 樣品反應瓶數(shù)量 | 8只 |
大容量光化學反應器CH-GHX-B光解水反應裝置技術參數(shù):
型號:CH-GHX-B大容量光化學反應儀
(一)主體部分
1.光源功率可連續(xù)調(diào)節(jié)大小。
2.集成式光源控制器,可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。
3.汞燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
4.氙燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
5.金鹵燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~500W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
(二)大容量反應部分
1.玻璃反應器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等(或定做)。
2.大功率強力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。
大容量光化學反應儀產(chǎn)品配置:
配置單 | 數(shù) 量 |
控制主機 | 1臺 |
反應暗箱 | 1臺 |
光源控制器 | 1臺 |
雙層石英冷阱 | 1個 |
汞燈(1000W) | 1支 |
氙燈(1000W) | 1支 |
金鹵燈(500W) | 1支 |
攪拌裝置 | 1套 |
樣品反應瓶 | 8只(30ml,50ml共8只) |
光化學反應儀主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應容器是否負載光催化劑等條件下的光化學反應。具有提供分析反應產(chǎn)物和自由基的樣品,測定反應動力學常數(shù),測定量子產(chǎn)率等功能,廣泛應用化學合成、環(huán)境保護以及生命科學等研究領域。
目前,各種干擾在各類工業(yè)現(xiàn)場中均存在,所以儀表及控制系統(tǒng)的可靠性直接影響到現(xiàn)代化工業(yè)生產(chǎn)裝置安全、穩(wěn)定運行,系統(tǒng)的抗干擾能力是關系到整個系統(tǒng)可靠運行的關鍵。隨著DCS、現(xiàn)場總線技術的應用,被控對象和被測信號往往分布在各個不同的地方,并且他們與控制站之間也有相當長的距離,因此,信號線和控制線均可能是長線。其次,現(xiàn)場往往有許多強電設備,它們的啟動和工作將對測控系統(tǒng)產(chǎn)生強烈的影響。同時來自空間的輻射干擾、系統(tǒng)外引線干擾等問題尤為突出。因此,除有用信號外,由于各種原因必然會有一些與被測信號無關的電流或電壓存在,這種無關的電流或電壓通稱“干擾(噪聲)"。在測量過程中,這些干擾若不能很好地處理,那它將歪曲測量結果,嚴重時甚至使儀表或計算機不能工作。大量實踐說明,抗干擾性能是各種電子測量裝置的一個很重要的問題,尤其是DCS、現(xiàn)場總線技術的廣泛應用和迅速發(fā)展,有效地排除和抑制各種干擾,已成為必需探討和解決的迫切問題,因為干擾不僅能造成邏輯混亂,使系統(tǒng)測量和控制失靈,以致降低產(chǎn)品的質(zhì)量,甚至使生產(chǎn)設備損壞,造成事故。因此,抗干擾技術在儀表測控系統(tǒng)的設計、制造、安裝和日常維修中都必需給予足夠的重視。
大容量光化學反應器CH-GHX-B光解水反應裝置光化學反應儀是近20年才出現(xiàn)的處理技術,在足夠的反應時間內(nèi)通??梢詫⒂袡C物礦化為CO2和H2O等簡單無機物,避免了二次污染,光化學反儀簡單高效而有發(fā)展前途。由于以末為催化劑的光催化氧化法存在催化劑分離回收的問題,影響了該技術在實際中的應用,因此光化學反應器固定在某些載體上以避免或更容易使其分離回收的技術引起了國內(nèi)外學者的廣泛興趣。
光化學反應與一般熱化學反應相比有許多不同之處,主要表現(xiàn)在:加熱使分子活化時,體系中分子能量的分布服從玻耳茲曼分布;而分子受到光激活時,原則上可以做到選擇性激發(fā),體系中分子能量的分布屬于非平衡分布。所以光化學反應的途徑與產(chǎn)物往往和基態(tài)熱化學反應不同,只要光的波長適當,能為物質(zhì)所吸收,即使在很低的溫度下,光化學反應仍然可以進行。
光化學的初級過程是分子吸收光子使電子激發(fā),分子由基態(tài)提升到激發(fā)態(tài)。分子中的電子狀態(tài)、振動與轉(zhuǎn)動狀態(tài)都是量子化的,即相鄰狀態(tài)間的能量變化是不連續(xù)的。因此分子激發(fā)時的初始狀態(tài)與終止狀態(tài)不同時,所要求的光子能量也是不同的,而且要求二者的能量值盡可能匹配。
由于分子在一般條件下處于能量較低的穩(wěn)定狀態(tài),稱作基態(tài)。受到光照射后,如果分子能夠吸收電磁輻射,就可以提升到能量較高的狀態(tài),稱作激發(fā)態(tài)。如果分子可以吸收不同波長的電磁輻射,就可以達到不同的激發(fā)態(tài)。按其能量的高低,從基態(tài)往上依次稱做激發(fā)態(tài)、D二激發(fā)態(tài)等等;而把高于激發(fā)態(tài)的所有激發(fā)態(tài)統(tǒng)稱為高激發(fā)態(tài)。
激發(fā)態(tài)分子的壽命一般較短,而且激發(fā)態(tài)越高,其壽命越短,以致于來不及發(fā)生化學反應,所以光化學主要與低激發(fā)態(tài)有關。激發(fā)時分子所吸收的電磁輻射能有兩條主要的耗散途徑:一是和光化學反應的熱效應合并;二是通過光物理過程轉(zhuǎn)變成其他形式的能量。
光物理過程可分為輻射弛豫過程和非輻射弛豫過程。輻射弛豫過程是指將全部或部分多余的能量以輻射能的形式耗散掉,分子回到基態(tài)的過程,如發(fā)射熒光或磷光;非輻射弛豫過程是指多余的能量全部以熱的形式耗散掉,分子回到基態(tài)的過程。
決定一個光化學反應的真正途徑往往需要建立若干個對應于不同機理的假想模型,找出各模型體系與濃度、光強及其他有關參量間的動力學方程,然后考察何者與實驗結果的相符合程度Z高,以決定哪一個是Z可能的反應途徑。
光化學研究反應機理的常用實驗方法,除示蹤原子標記法外,在光化學中Z早采用的猝滅法仍是有效的一種方法。這種方法是通過被激發(fā)分子所發(fā)熒光,被其他分子猝滅的動力學測定來研究光化學反應機理的。它可以用來測定分子處于電子激發(fā)態(tài)時的酸性、分子雙聚化的反應速率和能量的長程傳遞速率。
由于吸收給定波長的光子往往是分子中某個基團的性質(zhì),所以光化學提供了使分子中某特定位置發(fā)生反應的Z佳手段,對于那些熱化學反應缺乏選擇性或反應物可能被破壞的體系更為可貴。光化學反應的另一特點是用光子為試劑,一旦被反應物吸收后,不會在體系中留下其他新的雜質(zhì),因而可以看成是“Z純"的試劑。如果將反應物固定在固體格子中,光化學合成可以在預期的構象(或構型)下發(fā)生,這往往是熱化學反應難以做到的。
地球與行星的大氣現(xiàn)象,如大氣構成、光、輻射屏蔽和氣候等,均和大氣的化學組成與對它的輻照情況有關。地球的大氣在地表上主要由氮氣與氧氣組成。但高空處大氣的原子與分子組成卻很不相同,主要和吸收太陽輻射后的光化學反應有關。
大氣污染過程包含著其豐富而復雜的化學過程,目前用來描述這些過程的綜合模型包含著許多光化學過程。如棕色二氧化氮在日照下激發(fā)成的高能態(tài)分子,是氧與碳氫化物鏈反應的引發(fā)劑。又如氟碳化物在高空大氣中的光解與臭氧屏蔽層變化的關系等,都是以光化學為基礎的。
光化學反應儀的氙燈的光、電參數(shù)一致性好,工作狀態(tài)受外界條件變化的影響小。氙燈連續(xù)光譜部分的光譜分布幾乎與燈輸入功率變化無關,在壽命期內(nèi)光譜能量分布也幾乎不變 。氙燈一經(jīng)燃點,幾乎是瞬時即可達到穩(wěn)定的光輸出;燈滅后,可瞬時再燃點。光效高,電位梯度較小。輻射光譜能量分布與日光相接近,色溫約為6000K。
冷凝器是光化學反應儀的重要組成,冷凝器能將管子中的熱量,以很快的方式,傳到管子附近的空氣,把氣體或蒸氣轉(zhuǎn)變成液體的裝置。光化學反應儀在運行時冷凝器在制冷的循環(huán)之,是可以將將設備的壓縮機排出高壓或者是高溫的制冷劑氣體,交還給所需要的運行。冷凝器。
光化學反應儀廠家產(chǎn)品的基本保養(yǎng)常識:
1、儀表應放在陰涼、通風、干燥、防塵較好的位置,為了的散熱效果,儀表通風處,于其它物品應保持有效距離(N﹥30cm)。
2、在連接交流電池之前,要電壓與儀表所要求的電壓一致(允許±10%的偏差),并電池插座的額定負載不小于儀表要求。
3、為了避免觸電事故,儀表的輸入電池線接地,本儀表用于的是三芯接地插頭,這種插頭有接地腳,如果插頭無法插入座內(nèi),則應請電工安裝正確的插座,不要使儀表失去接地保護作用。
4、儀表通常用于隨機附帶的電池線。如果電池線破損,換不許修理。換時用相同類型和規(guī)格的電池線代替。本儀表用于時電池線上不許放置任何物品。不要將電池線置于人員走動的地方。
5、注意儀表的防霧:測繪儀表在用于和貯放中,除了有生霉現(xiàn)象外,往往還有光學零件的起霧,影響儀表的正常用于,故可針對光學信器起霧的主要因素,采取防止措施。
6、重視儀表設備的管理和用于:儀表設備的高負荷用于,往往容易發(fā)生意外故障,光學儀表若因維護和用于不當而起霧,就不能發(fā)揮儀表的正常作用,而帶來工作上的障礙。所以的維護管理儀表設備已成為當今企事業(yè)單位有效降低成本,提高勞動生產(chǎn)率的有效手段。